
| 專利名稱: | 一種負(fù)載金屬基納米顆粒的復(fù)合潤(rùn)滑薄膜及其制備方法 |
| 專利類別: | 發(fā)明 |
| 第一發(fā)明人: | 董春萌; 孫嘉奕; 姜棟; 伏彥龍; 高曉明; 王德生; 胡明; 王琴琴; 楊軍; 翁立軍 |
| 其他發(fā)明人: | |
| 申 請(qǐng) 號(hào): | |
| 專 利 號(hào): | 202010841718.9 |
| 申請(qǐng)日期: | 20200820 |
| 專利授權(quán)日期: | 20211231 |
| 國(guó)外申請(qǐng)方式: | |
| 國(guó)外申請(qǐng)日期: | |
| 國(guó)外授權(quán)日期: | |
| 專利證書(shū)號(hào): | |
| 專利摘要: | |
| 實(shí)施情況: | |
| 其他備注: |

